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种植体周围粘膜炎是一种可逆的菌斑诱发的种植体周围软组织的炎症性疾病,其诊断是基于临床上的炎症症状,而没有任何影像学上的边缘骨丧失。早期发现和处理种植体周围粘膜炎可能有助于减少炎症参数,阻止疾病发展为种植体周围炎。不同的辅助治疗方法,如二极管激光,其潜在的治疗效果尚未明了。近日,发表于Int Dent J的一项系统回顾和荟萃分析旨在评估使用二极管激光对种植体周围粘膜炎的管理手段对牙周参数改变方面的结果。
研究人员系统检索了电子数据库,纳入比较联合使用机械清创和二极管激光与单独使用机械清创的随机对照试验。纳入的研究应提供临床参数的信息,包括探诊深度、探诊出血、菌斑指数或牙龈退缩等参数。使用特定的偏倚风险工具来评估偏倚风险。
结果,研究人员共确定了149项研究。对其中3项随机对照试验的荟萃分析显示,干预3个月时两组之间的探诊深度(平均差异[MD],-0.36;95%置信区间[CI],-0.88至0.16;P = 0.18)或探诊出血(MD,-0.71;95% CI,1.58至0.16;P = 0.11)没有显著的统计学差异。
综上所述,该研究结果表明,在种植体周围粘膜炎的治疗中,联合使用二极管激光和机械清创并没有比单独使用机械清创提供任何额外的临床益处。仍然需要长期的、精心设计的随机对照试验来进一步验证该研究结果。
原始出处:
Momen A Atieh, et al., Diode Laser as an Adjunctive Treatment for Peri-implant Mucositis: A Systematic Review and Meta-analysis. Int Dent J. 2022 Dec;72(6):735-745. doi: 10.1016/j.identj.2022.06.026.
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